シリコン カーバイド基板洗浄液
シリコンカーバイド（SiC）は、その広いバンドギャップ構造と高温容量により、EVおよびエネルギー業界のチップメーカーが選ぶ基板として急速に普及しつつあります。SiCチップにより、より高速で、より安定した、より効率的なデバイスの製造が可能になります。
大量生産中に欠陥のないSiCウェハを作成するのは困難です。大量生産には、ウェーハ製造、チップの前処理、デバイス製造、および後処理中に特別な考慮が必要です。Entegrisは、SiC処理の課題に対処するために、市場をリードする製品と付随するテクノロジーの完全なエコシステムを構築しました。これには以下が含まれます:
Featured Webinar
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- 特殊コーティンググラファイトや化学機械平坦化用カスタムスラリーなどの結晶成長用製品とソリューション
- さまざまな産業用研磨ツールをサポートするパッドとリング
- エピタキシー形成、エッチング、イオン注入、ろ過およびガス精製による不純物除去のためのデバイス製造ソリューション
- 損傷や汚染を軽減するウェーハの取り扱いと輸送のための独自の製品
その結果、デバイス製造に必要な優れた表面品質と平坦性を備えたSiC基板を大量に製造できるようになります。
弊社の シリコンカーバイド基板ソリューションの詳細をご覧になり、プロジェクトについてご相談ください。
注目のブログ
SiC ウェーハの移行をマスターする
シリコンカーバイド（SiC）半導体の使用は、スイッチング損失の低減と効率性の向上により電気自動車（EV）に大きな利点をもたらしますが、コストが常に欠点となってきました。SiCウェハの製造はコストが高く、歩留まりが低いため、SiC半導体のコストはシリコン製半導体の最大8倍にもなります。このコストは多くの場合、最終顧客に転嫁され、EVの価格をさらに高くしています。
Featured White Paper
Enabling the SiC Era: End-to-End Wafer Processing Solutions
Entegris offers a comprehensive portfolio of materials and products that support the entire SiC wafer processing chain, from crystal growth and substrate preparation to final device fabrication – together with unmatched expertise and understanding of the challenges these steps pose. This white paper spotlights Entegris’ proficiency and offerings in support of SiC wafer processing.
Featured Pictogram
Customizing CMP for Silicon Carbide Wafers
Pictorial explaining how Entegris' customized SiC slurry enables specialized CMP processes to cost effectively meet the automotive industry demands for higher operating voltages.
関連コンテンツ
Mastering the SiC Wafer Transition
The use of silicon carbide (SiC) semiconductors offers a huge advantage for electric vehicles (EVs) due to lower switching losses and higher efficiencies, but cost has always been a drawback. SiC wafer manufacturing can suffer from high costs and lower yields, causing SiC semiconductors to cost up to eight times more than their silicon equivalents. This cost often gets passed on to the end customer, making EVs more expensive.
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Finding CMP Synergies to Improve Wafer Performance, Yield, and Variability
Pictorial explaining how finding synergies between the slurries, components, filters, chemistries, conditioners, brushes, and monitoring tools used in CMP, and sourcing them from Entegris, can improve wafer performance, yield, and variability.
製品ソリューション
CMPスラリー製品
Minimize the impact of crystal growth defects and maximize high-quality wafer yield.
Thermoplastic polishing pads for silicon carbide (SiC) wafers offer the optimal balance of best-in-class performance, quality, and cost of ownership.
Best-in-class, bulk, point-of-tool, and point-of-dispense CMP slurry filter solutions to prevent micro-scratches and underlayer defects.
Precise control and measurement of process fluids for ultrapure applications in harsh environments.
High performance slurries for scalable manufacturing of atomically smooth and defect-free SiC wafers.
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Explore our full ecosystem of market-leading products and accompanying technologies to address SiC processing challenges
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